2019年7月，日本針對三種半導(dǎo)體材料對韓國實施出口管制，其中包含用于極紫外（EUV）光刻工藝的光刻膠。據(jù)悉為降低對日本的依賴，三星SDI近期已經(jīng)開始開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠。
 

據(jù)BusinessKorea報道，三星SDI最近為其研究中心的光刻膠開發(fā)引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設(shè)備。該公司此舉旨在將幾乎由日本壟斷的半導(dǎo)體光刻膠的生產(chǎn)內(nèi)部化，并使旗下電子材料業(yè)務(wù)的單一產(chǎn)品組合變得多樣化。
 

目前，日本東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日企握有全球九成半導(dǎo)體光刻膠市場份額。東京應(yīng)化在g線/i線和Krf光刻膠領(lǐng)域居龍頭地位， JSR在Arf光刻膠領(lǐng)域市占率最高。
 

韓媒指出，三星SDI開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠的舉措將對韓國持續(xù)推進(jìn)的材料國產(chǎn)化產(chǎn)生重大影響。
 

在韓國當(dāng)?shù)兀珼ongjin Semichem和SK Materials Performance等光刻膠供應(yīng)商一直在為本土化生產(chǎn)而努力。然而，許多行業(yè)專家指出，韓國需要投入更多的資金和人力成本，才能成為核心半導(dǎo)體材料的中心。
 

行業(yè)分析人士指出，如果三星SDI進(jìn)入該領(lǐng)域并大規(guī)模生產(chǎn)光刻膠，將大大增強(qiáng)韓國的半導(dǎo)體材料研究基礎(chǔ)設(shè)施。
 

但三星SDI并未透露光刻膠開發(fā)計劃的啟動和完成時間。該公司僅表示，在完成光刻膠開發(fā)后，不僅將向三星電子提供新產(chǎn)品，還將向其他半導(dǎo)體公司及使用光刻膠的公司供貨。
 

三星SDI的一位高管表示，“我們一直在開發(fā)各種類型的光刻膠，包括 EUV光刻膠。”不過，光刻膠的商業(yè)化時間及具體細(xì)節(jié)還未敲定。